Να στείλετε μήνυμα
Σπίτι
Προϊόντα
Περίπου εμείς
Γύρος εργοστασίων
Ποιοτικός έλεγχος
Μας ελάτε σε επαφή με
Ζητήστε ένα απόσπασμα
Ειδήσεις
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

Πωλήσεις & Υποστήριξη：

Αρχική Σελίδα Προϊόντα

Ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου

Όλα τα Προϊόντα
Προϊόντα μολυβδαίνιου (78)
Επεξεργασμένα στη μηχανή μολυβδαίνιο μέρη (104)
Ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου (21)
Ηλεκτρόδιο μολυβδαίνιου (12)
Επεξεργασμένα στη μηχανή βολφράμιο μέρη (28)
Ράβδος βολφραμίου (15)
Βαρύ κράμα βολφραμίου (54)
Κράμα χαλκού βολφραμίου (64)
Rhenium βολφραμίου κράμα (15)
Κράμα TZM (49)
Προϊόντα τανταλίου (37)
Προϊόντα νιόβιου (19)
Ψεκάζοντας στόχοι (17)
Φραγμός ζιρκονίου (13)
Καλώδιο ιριδίου (12)
βασισμένα στο νικέλιο κράματα (23)
Μη σιδηρούχα μέταλλα (28)
ΚΙΝΑ Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. Πιστοποιήσεις
ΚΙΝΑ Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. Πιστοποιήσεις
Το Zhengzhou Sanhui είναι επαγγελματικός συνεργάτης με την άριστη ποιότητα και θερμή υπηρεσία.

—— James

Εκτιμάμε τη μακροπρόθεσμη συνεργασία σας με την εξασφάλιση ποιότητας και την έγκαιρη παράδοση. Και ευχαριστώ πολύ για την καλή υποστήριξή σας μέχρι το 2020.

—— Βαρίδι

Είμαι Online Chat Now
ΚΙΝΑ Υψηλή αγνότητα 99,97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το κενό επίστρωμα διανομέας
Υψηλή αγνότητα 99,97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το κενό επίστρωμα

Ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου

(21)
ΚΙΝΑ Υψηλή αγνότητα 99,97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το κενό επίστρωμα εργοστάσιο

Υψηλή αγνότητα 99,97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το κενό επίστρωμα
Επικοινωνία

Υψηλή αγνότητα 99,97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το κενό επίστρωμα Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου: Όνομα προϊόντων Αγνότητα Πυκνότητα Επιφάνεια Επεξεργασία Στόχος της Mo 99.97% 10.2g/cm3 Έδ... Διαβάστε περισσότερα
2022-08-24 11:08:12
ΚΙΝΑ 99.97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το φυσικό επίστρωμα απόθεσης ατμού εργοστάσιο

99.97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το φυσικό επίστρωμα απόθεσης ατμού
Επικοινωνία

Υψηλή αγνότητα 99,97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το φυσικό επίστρωμα απόθεσης ατμού Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου Όνομα προϊόντων Αγνότητα Πυκνότητα Επιφάνεια Επεξεργασία Στόχος της Mo 99... Διαβάστε περισσότερα
2022-08-18 16:03:30
ΚΙΝΑ 10.22g/Cm3 ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το φωτοηλεκτρόνιο και τον ημιαγωγό εργοστάσιο

10.22g/Cm3 ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου για το φωτοηλεκτρόνιο και τον ημιαγωγό
Επικοινωνία

Ψεκάζοντας στόχοι μολυβδαίνιου για το φωτοηλεκτρόνιο και τον ημιαγωγό Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου Όνομα προϊόντων Αγνότητα Πυκνότητα Επιφάνεια Επεξεργασία Στόχος της Mo 99.95% 10.22g/cm3 Έδαφος ... Διαβάστε περισσότερα
2022-08-17 17:19:45
ΚΙΝΑ Η επιμετάλλωση σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας στοχεύει στους περιστρεφόμενους στόχους με το μήκος 3000mm εργοστάσιο

Η επιμετάλλωση σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας στοχεύει στους περιστρεφόμενους στόχους με το μήκος 3000mm
Επικοινωνία

99.95% καθαροί ψεκάζοντας στόχοι μολυβδαίνιου για το επίστρωμα PVD Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου Υπάρχουν δύο είδη ψεκάζοντας στόχων μολυβδαίνιου: επίπεδος στόχος μολυβδαίνιου και περιστροφικός στ... Διαβάστε περισσότερα
2022-08-17 12:00:46
ΚΙΝΑ 99.97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για PVD που ντύνει τον επίπεδο στόχο της Mo εργοστάσιο

99.97% ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για PVD που ντύνει τον επίπεδο στόχο της Mo
Επικοινωνία

99.97% ψεκάζοντας στόχοι μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για τον επίπεδο στόχο της Mo επιστρώματος PVD Η επιμετάλλωση είναι ένας νέος τύπος της φυσικής μεθόδου απόθεσης ατμού (PVD). Το μολυβδαίνιο που ψεκάζει ... Διαβάστε περισσότερα
2022-04-19 16:31:47
ΚΙΝΑ Κράμα 0.1mm της Mo στόχος μολυβδαίνιου για Magnetron το ψεκάζοντας υλικό επιστρώματος εργοστάσιο

Κράμα 0.1mm της Mo στόχος μολυβδαίνιου για Magnetron το ψεκάζοντας υλικό επιστρώματος
Επικοινωνία

99.95% στόχος μολυβδαίνιου αγνότητας ως Magnetron ψεκάζοντας υλικό επιστρώματος Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου Όνομα προϊόντων Αγνότητα Πυκνότητα Επιφάνεια Επεξεργασία Στόχος της Mo 99.95% 10.22g... Διαβάστε περισσότερα
2022-04-14 14:26:37
ΚΙΝΑ Στόχος σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για τη νέα ενέργεια ηλιακών κυττάρων λεπτών ταινιών εργοστάσιο

Στόχος σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για τη νέα ενέργεια ηλιακών κυττάρων λεπτών ταινιών
Επικοινωνία

Στόχος σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας που χρησιμοποιείται για τη νέα ενέργεια ηλιακών κυττάρων λεπτών ταινιών Η επιμετάλλωση είναι ένας νέος τύπος της φυσικής μεθόδου απόθεσης ατμού (PVD). Η επιμετάλλωση ... Διαβάστε περισσότερα
2022-03-30 16:14:42
ΚΙΝΑ 99.97% καθαροί ψεκάζοντας στόχοι μολυβδαίνιου για το επίστρωμα PVD εργοστάσιο

99.97% καθαροί ψεκάζοντας στόχοι μολυβδαίνιου για το επίστρωμα PVD
Επικοινωνία

99.97% καθαροί ψεκάζοντας στόχοι μολυβδαίνιου για το επίστρωμα PVD Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου: Υπάρχουν δύο είδη ψεκάζοντας στόχων μολυβδαίνιου: επίπεδος στόχος μολυβδαίνιου και περιστροφικός σ... Διαβάστε περισσότερα
2022-03-30 16:12:32
ΚΙΝΑ Ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου κενού επιστρώματος που ανοπτείται γύρω από το πιάτο μολυβδαίνιου εργοστάσιο

Ψεκάζοντας στόχος μολυβδαίνιου κενού επιστρώματος που ανοπτείται γύρω από το πιάτο μολυβδαίνιου
Επικοινωνία

10.22g/cm3 καθαρό μολυβδαίνιο γύρω από τους ψεκάζοντας στόχους μολυβδαίνιου πιάτων στην πώληση Εισαγωγή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου Εφαρμογή του ψεκάζοντας στόχου μολυβδαίνιου Οι στόχοι μολυβδαίνιου χρησ... Διαβάστε περισσότερα
2022-02-28 15:55:13
ΚΙΝΑ Περιστρέψιμος στόχος μολυβδαίνιου σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για τη βιομηχανία γυαλιού εργοστάσιο

Περιστρέψιμος στόχος μολυβδαίνιου σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για τη βιομηχανία γυαλιού
Επικοινωνία

Περιστρέψιμος στόχος μολυβδαίνιου σωλήνων μολυβδαίνιου υψηλής αγνότητας για τη βιομηχανία γυαλιού Η επιμετάλλωση είναι ένας νέος τύπος της φυσικής μεθόδου απόθεσης ατμού (PVD). Η επιμετάλλωση χρησιμοποιείται ευ... Διαβάστε περισσότερα
2021-12-31 11:49:15
Page 1 of 3|< 1 2 3 >|
Κράμα TZM

Υψηλής θερμοκρασίας τιτανίου-ζιρκονίου πιάτο & φύλλο κραμάτων μολυβδαίνιου TZM

Υψηλής θερμοκρασίας κενό κράμα μολυβδαίνιου κραμάτων ASTM B387 φούρνων TZM

Τμήματα πιάτων κραμάτων μολυβδαίνιου TZM που εφαρμόζονται ως λειτουργικό υλικό

Υψηλή αγνότητα 99,95% ράβδοι κραμάτων TZM μολυβδαίνιου με το μήκος 30~3000mm

Επεξεργασμένα στη μηχανή μολυβδαίνιο μέρη

Dia 38.5mm καθαρή άνευ ραφής χοάνη μολυβδαίνιου που εφαρμόζεται στο επίστρωμα Vaporation

99.95% επεξεργασμένο στη μηχανή μολυβδαίνιο πιάτο μολυβδαίνιου μερών καθαρό για τον κενό φούρνο

Επεξεργασμένα στη μηχανή μολυβδαίνιο μέρη φούρνων ASTM B387 υψηλής θερμοκρασίας

Επικεφαλής βολφράμιο πηγής υψηλής επίδοσης ιονικό και προσαρμοσμένα μολυβδαίνιο συστατικά

Βαρύ κράμα βολφραμίου

99.95% φύλλο αλουμινίου βολφραμίου πιάτων βολφραμίου με την επιφάνεια επίγειου κυλίσματος

W90NiFe βαριά μέρη κραμάτων βολφραμίου με την πυκνότητα αδύνατου μαγνητικού 18g/Cm3

W95NiFe κράμα σιδήρου νικελίου βολφραμίου για τη συσκευή προστατευτικών καλυμμάτων

Μέγιστο βαρύ κράμα βολφραμίου 18.5g/cm3 W90NiFe W97NiFe για την υψηλής θερμοκρασίας φόρμα

Αίτηση κράτησης

E-Mail | Χάρτης ιστότοπου

Mobile Site
Πολιτική Απορρήτου | ΚΙΝΑ καλός ποιότητας Προϊόντα μολυβδαίνιου προμηθευτής. © 2020 - 2024 machining-molybdenum.com. All Rights Reserved.